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  • 产品信息:LPCVD低压化学气相沉积系统

    LPCVD低压化学气相沉积系统

    品  牌: TYSTAR
      价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格
    所 在 地: 北京
    更新日期: 2018-01-08
    详细信息
    LPCVD低压化学气相沉积系统
    TYTAN标准系列
     

    TYTAN标准炉系统设计用于扩散、氧化应用。系统紧凑且适用于制造和研发环境。其标准系列在工业和研发部门作为可靠的工艺工具很受青睐。它们提供了优质的性能和工艺的均匀性。设计采用了绝大部分高性能要求的硅片处理工具的先进理念:

    • 装满100到200片硅片时占地面积小;工艺均匀性极高;正常运行时间超过95%;使用的客户群大;专家专线服务;最大8”/200毫米;节省电力达到50%
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    • 控制
    • 经过几年的优化,TYTAN控制系统达到了高水平的完善。工艺管里的温度感应,自适应温度控制算法和气体控制集成、压力控制、测时和测序、硅片装卸载都已经导致了 TCUFCS 10FCS 20DCS 30, 和 MFS 460.  所有的控制元件都与SECS/GEM兼容。
    • 硅片生态学
    • 硅片污染和粒子沉积是设备制造和研发工程的关键注意事项。用于配气系统以及与反应器中的硅片相接触的所有部件的材料都是经过仔细选择的高纯度、耐化学腐蚀材料。在预清洗和炉组件的装配中需要非常小心。在气体输入到反应器管的所有工序,均使用点式气体过滤器。装载站等级高于10级。
    • 安全性
    TYTAN的安全特征在设计时就做了考虑,没有后顾之忧。有毒和有危害的气体的泄漏是绝对不可能发生的。在气体控制板中使用的是高质量的机械组件、轨道焊接气体管道安全关闭阀门。气体控制都设计为自动故障保护装置,其操作员的干预最小。在紧急情况下系统自动默认为氮清洗模式。在气体控制系统中,广泛使用了安全联锁装置,以提供足够的气体清洗周期、延时和温度联锁。
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