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  • 产品信息:Cambridge ALD原子层沉积设备

    Cambridge ALD原子层沉积设备

    产品型号: Fiji
    品  牌: Cambridge
      价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格
    所 在 地: 北京
    更新日期: 2018-01-08
    详细信息

    基本性能

     

    200mm 热/等离子ALD设备

    可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm

    标准基本卡盘温度:500℃,可选配800℃

    远程电感耦合等离子源,300Watt

    标配4个气源,可选配6个气源

    标配4种等离子气体,可选配6种等离子气体

    性能可扩展,灵活性高

    设备设计精简

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